SOLUTION / CUTTING

펨토초 레이저를 이용하여 다양한 소재의 정밀 절단과 미세 형상 가공을 수행합니다.

소재 특성과 요구 형상에 맞춰 레이저 조건과 가공 경로를 최적화합니다.

Material
Silicon Wafer
Thickness
0.7 mm
Target
10 × 10 mm Pattern Cutting · 2 Geometries

상세 설명

실리콘 웨이퍼를 대상으로 10 × 10 mm 규격의 서로 다른 2종 형상을 정밀하게 절단했습니다.

실리콘 웨이퍼는 취성이 높아 가공 과정에서 균열과 치핑이 발생하기 쉬우며, 일반 레이저 가공에서는 열 영향에 의한 변형과 품질 저하를 세심하게 관리해야 합니다. 본 가공에서는 펨토초 레이저의 초단펄스와 비접촉 가공 방식을 적용해 소재에 전달되는 열과 기계적 하중을 줄이고, 외곽 형상과 내부 개구부를 포함한 다양한 패턴을 구현했습니다.

복잡한 형상의 실리콘 부품 제작과 연구개발용 시제품, 다품종·소량 맞춤 가공에 적용할 수 있는 펨토초 레이저 정밀 Cutting 사례입니다.

주요 응용 분야

  • 반도체 및 MEMS 웨이퍼 소자 분리
  • 센서·마이크로디바이스용 외곽 및 개구 형상 가공
  • 광학·포토닉스 소자용 실리콘 기판 제작
  • 반도체 공정 평가용 웨이퍼 시편 및 쿠폰 제작
  • 연구개발용 실리콘 부품의 다품종·소량 맞춤 가공

RESULT IMAGES

PROCESS VIDEO